Soláthraíonn Semicera bratuithe cairbíde tantalam speisialaithe (TaC) do chomhpháirteanna agus d'iompróirí éagsúla.Cuireann an próiseas brataithe tosaigh Semicera ar chumas bratuithe chomhdhúile tantalam (TaC) íonacht ard, cobhsaíocht ardteochta agus lamháltas ceimiceach ard a bhaint amach, chun cáilíocht táirgí criostail SIC/GAN agus sraitheanna EPI a fheabhsú (Suceptor TaC brataithe le graifít), agus saol na bpríomhchodanna imoibreora a leathnú.Is é an úsáid a bhaint as sciath tantalum carbide TaC ná an fhadhb imeall a réiteach agus cáilíocht an fháis criostail a fheabhsú, agus tá Semicera tar éis an teicneolaíocht sciath tantalum carbide (CVD) a réiteach, ag teacht ar an ardleibhéal idirnáisiúnta.
Is ábhar ardteochta den scoth é graifít, ach ocsaídíonn sé go héasca ag teochtaí arda.Fiú i bhfolús foirnéisí le gás támh, féadann sé dul faoi ocsaídiú mall fós.Is féidir úsáid a bhaint as sciath chomhdhúile tantalam CVD (TaC) an tsubstráit graifíte a chosaint go héifeachtach, ag soláthar an fhriotaíocht ardteochta céanna agus a bhaineann le graifít.Is ábhar támh é TaC freisin, rud a chiallaíonn nach n-imoibreoidh sé le gáis amhail argón nó hidrigin ag teochtaí arda.FiosrúchánBreogán Cumhdach CVD Tantalum Carbide anois!
Tar éis blianta forbartha, tá Semicera buaite ag teicneolaíocht naCVD TaCle comhiarrachtaí na Roinne T&F.Is furasta lochtanna a tharlaíonn i bpróiseas fáis na sliseog SiC, ach tar éis iad a úsáidTaC, tá an difríocht suntasach.Anseo thíos tá comparáid idir sliseog le agus gan TaC, chomh maith le páirteanna Simicera le haghaidh fás criostail aonair.
le agus gan TaC
Tar éis TaC a úsáid (ar dheis)
Thairis sin, Semicera arTáirgí atá brataithe le TaCsaol seirbhíse níos faide a thaispeáint agus friotaíocht ardteochta níos mó i gcomparáid leCótaí SiC.Tá sé léirithe ag tomhais saotharlainne go bhfuil árBratuithe TaCis féidir leo feidhmiú go comhsheasmhach ag teochtaí suas le 2300 céim Celsius ar feadh tréimhsí fada.Seo thíos roinnt samplaí dár samplaí:
