Réamhrá ar Chumhdach CVD TaC:
Is teicneolaíocht é Cumhdach CVD TaC a úsáideann sil-leagan ceimiceach gaile chun sciath chomhdhúile tantalam (TaC) a thaisceadh ar dhromchla foshraithe. Is ábhar ceirmeach ardfheidhmíochta é carbide Tantalum a bhfuil airíonna meicniúla agus ceimiceacha den scoth aige. Gineann an próiseas CVD scannán TaC aonfhoirmeach ar dhromchla an tsubstráit trí imoibriú gáis.
Príomhghnéithe:
Cruas den scoth agus friotaíocht caitheamh: Tá cruas an-ard ag carbide Tantalum, agus is féidir le CVD TaC Coating feabhas suntasach a dhéanamh ar fhriotaíocht chaitheamh an tsubstráit. Déanann sé seo an sciath iontach d'iarratais i dtimpeallachtaí ardchaitheamh, mar uirlisí gearrtha agus múnlaí.
Cobhsaíocht Teocht Ard: Cosnaíonn bratuithe TaC comhpháirteanna criticiúla foirnéise agus imoibreora ag teochtaí suas le 2200 ° C, rud a léiríonn cobhsaíocht mhaith. Coinníonn sé cobhsaíocht cheimiceach agus meicniúil faoi choinníollacha teochta foircneacha, rud a fhágann go bhfuil sé oiriúnach le haghaidh próiseála ardteochta agus iarratais i dtimpeallachtaí ardteochta.
Cobhsaíocht cheimiceach den scoth: Tá friotaíocht láidir creimeadh ag carbide Tantalum don chuid is mó de aigéid agus alcailí, agus is féidir le CVD TaC Coating cosc a chur go héifeachtach ar damáiste don tsubstráit i dtimpeallachtaí creimneach.
Leáphointe ard: Tá leáphointe ard ag chomhdhúile tantalam (thart ar 3880 ° C), rud a fhágann gur féidir Cumhdach CVD TaC a úsáid i gcoinníollacha teochta fíor-ard gan leá nó díghrádú.
Seoltacht teirmeach den scoth: Tá seoltacht teirmeach ard ag sciath TaC, rud a chabhraíonn le teas a scaipeadh go héifeachtach i bpróisis ardteochta agus cosc a chur ar róthéamh áitiúil.
Feidhmchláir ionchasacha:
• Comhpháirteanna imoibreora CVD epitaxial Gailliam Nitride (GaN) agus Sileacain Carbide lena n-áirítear iompróirí wafer, miasa satailíte, cinn cith, uasteorainneacha, agus susceptors
• Comhpháirteanna fáis criostail chomhdhúile sileacain, nítríde ghailliam agus nítríde alúmanaim (AlN) lena n-áirítear breogáin, sealbhóirí síolta, treofháinní agus scagairí
• Comhpháirteanna tionsclaíocha lena n-áirítear eilimintí téimh friotaíochta, soic insteallta, fáinní cumhdaigh agus poirt phrásála
Gnéithe feidhmchláir:
• Cobhsaí teochta os cionn 2000°C, a cheadaíonn oibriú ag teochtaí foircneacha
• frithsheasmhach in aghaidh hidrigin (Hz), amóinia (NH3), aonsileán (SiH4) agus sileacain (Si), ag soláthar cosanta i dtimpeallachtaí ceimiceacha crua
• Cumasaíonn a fhriotaíocht turrainge teirmeach timthriallta oibriúcháin níos tapúla
• Tá greamaitheacht láidir ag graifít, rud a chinntíonn saol seirbhíse fada agus gan aon dílamú sciath.
• íonacht ultra-ard chun deireadh a chur le neamhíonachtaí nó ábhar salaithe gan ghá
• Clúdach brataithe comhréireach le lamháltais dhiantoiseacha
Sonraíochtaí teicniúla:
Ullmhú bratuithe dlúth chomhdhúile tantalam ag CVD:
Sciath TAC le criostalacht ard agus aonfhoirmeacht den scoth:
CVD TAC COATING Paraiméadair Theicniúla_Semicera:
Is gnáthluachanna iad seo thuas.
