Foshraith Wafer Snasta dhá thaobh 4 Orlach Ardíonachta Leath-Inslithe HPSI SiC

Cur síos gairid:

Tá Foshraitheanna Leath-Inslithe Ardíonachta 4 Orlach Semicera (HPSI) SiC Sic Dhúbailte Snasta innealtóireacht bheachtais le haghaidh feidhmíocht leictreonach níos fearr. Soláthraíonn na sliseog seo seoltacht theirmeach den scoth agus insliú leictreach, atá oiriúnach d'fheidhmchláir leathsheoltóra chun cinn. Iontaobhas Semicera as cáilíocht agus nuálaíocht gan sárú i dteicneolaíocht sliseog.


Sonraí Táirge

Clibeanna Táirge

Tá Foshraitheanna Leath-Inslithe Leath-Inslithe Ardíonachta 4 Orlach Semicera (HPSI) SiC Taobh Dhúbailte Snasta déanta chun freastal ar éilimh dhian an tionscail leathsheoltóra. Tá na foshraitheanna seo deartha le maoile agus íonacht eisceachtúil, ag tairiscint an ardáin is fearr le haghaidh gléasanna leictreonacha ceannródaíocha.

Déantar idirdhealú a dhéanamh ar na sliseoga HPSI SiC seo ag a seoltacht theirmeach níos fearr agus a n-airíonna inslithe leictreach, rud a fhágann gur rogha iontach iad le haghaidh feidhmeanna ard-minicíochta agus ardchumhachta. Cinntíonn an próiseas snasta dhá thaobh garbh an dromchla íosta, rud atá ríthábhachtach chun feidhmíocht gléas agus fad saoil a fheabhsú.

Laghdaíonn ard-íonacht sliseog SiC Semicera lochtanna agus neamhíonachtaí, rud a fhágann go mbíonn rátaí toraidh níos airde agus iontaofacht gléasanna. Tá na foshraitheanna seo oiriúnach do raon leathan iarratas, lena n-áirítear feistí micreathonn, leictreonaic cumhachta, agus teicneolaíochtaí LED, áit a bhfuil cruinneas agus marthanacht riachtanach.

Le fócas ar nuálaíocht agus ar cháilíocht, baineann Semicera leas as ardteicníochtaí déantúsaíochta chun sliseog a tháirgeadh a chomhlíonann riachtanais dhian na leictreonaice nua-aimseartha. Ní hamháin go bhfeabhsaíonn an snasú dhá thaobh an neart meicniúil ach éascaíonn sé comhtháthú níos fearr le hábhair leathsheoltóra eile.

Trí Foshraitheanna Wafer Snasta Taobh Dhúbailte Semicera 4 Inch Ardíonachta Semicera a roghnú, is féidir le monaróirí na buntáistí a bhaineann le bainistíocht teirmeach feabhsaithe agus insliú leictreachais a ghiaráil, ag réiteach an bhealaigh d'fhorbairt feistí leictreonacha níos éifeachtaí agus níos cumhachtaí. Leanann Semicera de bheith i gceannas ar an tionscal agus é tiomanta do cháilíocht agus do dhul chun cinn teicneolaíochta.

Míreanna

Táirgeadh

Taighde

Caochadán

Paraiméadair Criostail

Polytype

4H

Earráid treoshuímh dromchla

<11-20 >4±0.15°

Paraiméadair Leictreacha

Dopant

n-cineál Nítrigine

Friotaíocht

0.015-0.025ohm·cm

Paraiméadair Mheicniúla

Trastomhas

150.0±0.2mm

Tiús

350 ±25 μm

Treoshuíomh cothrom bunscoile

[1-100]±5°

Fad comhréidh bunscoile

47.5 ± 1.5mm

Árasán tánaisteach

Dada

teilifís

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm(5mm*5mm)

≤5 μm(5mm*5mm)

≤10 μm(5mm*5mm)

Bow

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Dlúth

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Garbhacht tosaigh (Si-aghaidh) (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Struchtúr

Dlús micreaphíopaí

<1 ea/cm2

<10 ea/cm2

<15 ea/cm2

Neamhíonachtaí miotail

≤5E10adamh/cm2

NA

BPD

≤1500ea/cm2

≤3000ea/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000ea/cm2

NA

Cáilíocht Tosaigh

Tosaigh

Si

Críochnú dromchla

Si-aghaidh CMP

Cáithníní

≤60ea/wafer (méid≥0.3μm)

NA

scratches

≤5ea/mm. Fad carnach ≤ Trastomhas

Fad carnach≤2* Trastomhas

NA

Craiceann oráiste / claiseanna / stains / stríoca / scoilteanna / éilliú

Dada

NA

Sceallóga imill / fleasc / briste / plátaí heicsidheachúlach

Dada

Réimsí polytype

Dada

Achar carnach ≤20%

Achar carnach ≤30%

Marcáil léasair tosaigh

Dada

Cáilíocht Ar Ais

Críoch ar ais

C-aghaidh CMP

scratches

≤5ea/mm, Fad carnach≤2* Trastomhas

NA

Lochtanna cúil (sliseanna imeall/fleasc)

Dada

Ar ais roughness

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Marcáil léasair ar ais

1 mm (ón imeall barr)

Imeall

Imeall

Chamfer

Pacáistiú

Pacáistiú

Epi-réidh le pacáistiú i bhfolús

Pacáistiú caiséad il-wafer

*Nótaí: ciallaíonn "NA" aon iarratas Féadfaidh míreanna nach luaitear tagairt a dhéanamh do SEMI-STD.

tech_1_2_méid
sliseog SiC

  • Roimhe Seo:
  • Ar Aghaidh: