Faoi láthair, na modhanna ullmhúcháin desciath SiCÁirítear go príomha modh glóthach-sol, modh leabú, modh sciath scuab, modh spraeála plasma, modh imoibrithe gáis cheimiceach (CVR) agus modh sil-leagan ceimiceach gaile (CVD).
Modh leabú:
Is cineál shintéiriú céim soladach teocht ard é an modh, a úsáideann go príomha an meascán de phúdar Si agus púdar C mar an púdar leabaithe, cuirtear an maitrís graifít sa phúdar leabaithe, agus déantar an shintéiriú teocht ard sa ghás támh. , agus ar deireadh ansciath SiCfhaightear ar dhromchla an mhaitrís graifíte. Tá an próiseas simplí agus tá an meascán idir an sciath agus an tsubstráit go maith, ach tá aonfhoirmeacht an sciath feadh an treo tiús bochta, atá éasca le níos mó poill a tháirgeadh agus mar thoradh ar fhriotaíocht ocsaídiúcháin bocht.
Modh sciath scuab:
Is é an modh sciath scuab go príomha ná an t-amhábhar leachtach a scuabadh ar dhromchla an mhaitrís graifíte, agus ansin an t-amhábhar a leigheas ag teocht áirithe chun an sciath a ullmhú. Tá an próiseas simplí agus tá an costas íseal, ach tá an sciath ullmhaithe ag modh sciath scuab lag i gcomhcheangal leis an tsubstráit, tá an aonfhoirmeacht sciath bocht, tá an sciath tanaí agus tá an friotaíocht ocsaídiúcháin íseal, agus tá gá le modhanna eile chun cabhrú le é.
Modh spraeála plasma:
Is é an modh spraeála plasma go príomha ná amhábhair leáite nó leath-leáite a spraeáil ar dhromchla an mhaitrís graifíte le gunna plasma, agus ansin soladach a dhéanamh agus bannaí chun sciath a fhoirmiú. Tá an modh simplí a oibriú agus féadann sé sciath chomhdhúile sileacain sách dlúth a ullmhú, ach is minic go mbíonn an sciath chomhdhúile sileacain ullmhaithe ag an modh ró-lag agus mar thoradh ar fhriotaíocht ocsaídiúcháin lag, mar sin úsáidtear go ginearálta é le haghaidh ullmhú sciath ilchodach SiC a fheabhsú. cáilíocht an sciath.
Modh glóthach-sol:
Is é an modh glóthach-sol den chuid is mó ná réiteach sol aonfhoirmeach agus trédhearcach a ullmhú a chlúdaíonn dromchla an mhaitrís, a thriomú i glóthach agus ansin shintéiriú chun sciath a fháil. Tá an modh seo simplí a oibriú agus íseal i gcostas, ach tá roinnt easnaimh ag an sciath a tháirgtear, mar shampla friotaíocht turraing íseal teirmeach agus scoilteadh éasca, agus mar sin ní féidir é a úsáid go forleathan.
Imoibriú Gáis Ceimiceach (CVR):
Gineann CVR go príomhasciath SiCtrí úsáid a bhaint as púdar Si agus SiO2 chun gal SiO a ghiniúint ag teocht ard, agus go dtarlaíonn sraith imoibrithe ceimiceacha ar dhromchla an tsubstráit ábhar C. Tá ansciath SiCullmhaithe ag an modh seo atá nasctha go dlúth leis an tsubstráit, ach tá an teocht imoibrithe níos airde agus tá an costas níos airde.
Taistil Cheimiceach Gaile (CVD):
Faoi láthair, is é CVD an príomhtheicneolaíocht le haghaidh ullmhúcháinsciath SiCar dhromchla an tsubstráit. Is é an príomh-phróiseas sraith imoibrithe fisiceacha agus ceimiceacha d'ábhar imoibreán céim gáis ar dhromchla an tsubstráit, agus ar deireadh ullmhaítear an sciath SiC trí thaisceadh ar dhromchla an tsubstráit. Tá an sciath SiC ullmhaithe ag teicneolaíocht CVD nasctha go dlúth le dromchla an tsubstráit, rud a d'fhéadfadh feabhas a chur go héifeachtach ar fhriotaíocht ocsaídiúcháin agus ar fhriotaíocht ablative ábhar an tsubstráit, ach tá am taisce an mhodha seo níos faide, agus tá tocsaineach áirithe ag an ngás imoibrithe. gás.
Am postála: Nov-06-2023